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陶瓷3D打印在航天及半導體行業(yè)大型零件的應(yīng)用

魔猴君  知識堂   796天前

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3D打印成為高端需求應(yīng)用的重要生產(chǎn)工具

目前和未來的空間和航天領(lǐng)域的光學儀器因為技術(shù)和成本方面的需求,結(jié)構(gòu)將趨向于高度一體化。零部件的高復雜性使得增材制造(AM)成為一種顛覆性的生產(chǎn)方式。此外,隨著性能要求的提高,光學系統(tǒng)將變得越來越強大,這就要求開發(fā)新的制造工藝,以保證預(yù)期的性能。半導體工業(yè)是另一個對陶瓷材料要求很高且具有挑戰(zhàn)性的重要領(lǐng)域。


圖一3d打印陶瓷

這些產(chǎn)品的整體制造工藝流程都非常有挑戰(zhàn)性,需要使用特殊的化學、熱和電子性能的材料,陶瓷材料成為了最好的選擇。此外,對靈活和復雜形狀的需求,使3D打印成為便捷地應(yīng)對措施。因此,航天和電子應(yīng)用很可能是3D打印陶瓷技術(shù)零件未來10年最重要的應(yīng)用方向,預(yù)計到2030年底將達到約7.64億美元。

空間應(yīng)用光學儀器的主要技術(shù)特點是:

? 視線穩(wěn)定性

? 抗惡劣機械和熱環(huán)境的強度

? 作為任務(wù)組件的高光學性能

陶瓷材料可以滿足這些需求,是因為它們具有特殊的機械性能(剛度、強度、穩(wěn)定性)。但陶瓷產(chǎn)品往往受到傳統(tǒng)制造方法的限制,限制其使用在大型和小應(yīng)力零件。然而,空間應(yīng)用對優(yōu)化的大型光學儀器的需求越來越迫切,例如:衛(wèi)星反射鏡必須盡可能輕,只有增材制造才能優(yōu)化這些新反射鏡的設(shè)計和生產(chǎn)。

為了滿足日益增長的需求,3Dceram 開發(fā)了C3600 Ultimate 3D打印機,其打印平臺為600 mm x 600 mm x 300 mm(長x寬x高),是其最大的立體光刻打印機。


使用C3600 Ultimate 3D打印機生產(chǎn)光學零件具有許多優(yōu)點,例如:

? 縮短交付周期:光學零件的傳統(tǒng)制造工藝由6個步驟組成(毛坯的生產(chǎn)-通過機械加工輕量化-研磨-拋光-涂層-表面集成)。3D打印可以避免機械加工和研磨步驟

? 節(jié)省陶瓷材料:通常90%的坯料重量都是通過機械加工去除的,因此會產(chǎn)生過多的廢料,并且有很高的裂紋風險

? 顛覆性設(shè)計:可以考慮更復雜的設(shè)計以及減重設(shè)計

? 功能集成:如內(nèi)部通道、電氣軌道和饋線

? 打印大尺寸零件:如圖2



2:直徑為500mm的衛(wèi)星鏡,采用封閉式結(jié)構(gòu),在C3600打印機上用不到1天的時間打印完成

3DCERAM工藝能夠簡化和減少制造過程。這為發(fā)展冷卻光學系統(tǒng)、有源光學系統(tǒng)或自由曲面光學系統(tǒng)開辟了一條新途徑。3D打印的成形功能也提高了集成/粘合工藝質(zhì)量,具有更高的精度。因此,通過CERAMAKER C3600打印機,現(xiàn)在可以生產(chǎn)“定制”的大型陶瓷光學基板,從而降低制造過程中的風險。不僅如此,新的反射鏡設(shè)計還包括可減輕重量的半封閉結(jié)構(gòu)和集成界面的探索(圖2)。

3DCERAM工藝也為下一代儀器開辟了新的前景:

? 具有集成功能的緊湊型解決方案(隔熱器、冷卻通道等)

? 機械和熱界面的限制

? 將光學功能集成在結(jié)構(gòu)裝置中

3DCERAM C3600 Ultimate打印機現(xiàn)在能夠滿足航天工業(yè)中生產(chǎn)一系列適應(yīng)最惡劣環(huán)境的大型復雜光學基板或結(jié)構(gòu)件。

應(yīng)

近年來,半導體制造廠開發(fā)了越來越復雜的工藝,需要特殊的設(shè)備來滿足他們的需求。此外,市場對微電路容量的需求日益增長,導致越來越多使用直徑為1-12英寸(25-300毫米)的硅晶片,并開發(fā)設(shè)備來處理它們以獲得所需的沉積物。

為了更好地理解陶瓷材料在半導體行業(yè)中的作用,這里簡要介紹下集成電路芯片制造中所涉及的主要步驟:

? 晶片加工是通過切割由硅或砷化鎵制成的單晶柱來獲得圓形晶片

? 氧化工藝是在晶片表面形成保護膜的必要步驟。

? 光刻工藝用于在晶片上“打印”電路圖案。

? 蝕刻工藝去除多余的氧化膜,只留下半導體電路圖

? 薄膜沉積用于在晶片表面形成由交替導電和絕緣薄膜組成的多層結(jié)構(gòu)。

? 互連過程實現(xiàn)電力和信號傳輸。

? 組裝、包裝和最終測試

所有這些步驟,都是為了延長設(shè)備壽命并降低運行成本。除了需要在極其清潔的條件下工作,使用的多種沉積技術(shù),如CVD、PECVD、ALD;還需要具有特定性能的材料,以獲得并保持生產(chǎn)這些高性能產(chǎn)品所需的完美條件。

在陶瓷材料中,需求最多的是:

? 常見氧化物:如氧化鋁、氧化鋯、二氧化硅、堇青石,它們代表了市場的主要部分;但也有附加值較高的氧化物:如三氧化二釔

? 氮化物:氮化鋁和氮化硅

? 碳化物:碳化硅

以下是一些用于半導體行業(yè)的陶瓷零件的例子:


3:此大零件在CERAMAKER C3600打印機上的打印時間為21小時49分鐘

? 在晶圓清潔步驟中,陶瓷材料用于晶圓輸送托盤、卡盤/吸盤(圖3)和機器臂

? 在熱擴散和化學氣相沉積過程中,輻射管、晶圓船和氣體引入口等許多部件都是由陶瓷制成的

? 在等離子體蝕刻過程中,陶瓷被用于腔室、靜電卡盤、噴嘴和環(huán)。

? 陶瓷也可用作熱處理期間的加熱器

此外,3D打印工藝由于其靈活性和反應(yīng)性以及打印復雜幾何圖形的可行性,似乎是生產(chǎn)這些高科技零件的一種具有光明前景的技術(shù)選擇。

2018年,Alumina Systems 有限公司通過陶瓷3D打印取得了在半導體行業(yè)的巨大成功。該公司因開發(fā)了一個380毫米直徑的PEALD(等離子體增強原子層沉積)工藝的陶瓷氣體分配環(huán)而獲得了慕尼黑/德國CERAMITEC的最佳組件獎。由于其巧妙的幾何形狀,該環(huán)可以同時或按順序供應(yīng)兩種氣體。PEALD是一種適用于半導體生產(chǎn)的創(chuàng)新工藝,顯示出技術(shù)的重要提升,具有巨大的經(jīng)濟潛力。

 結(jié)

增材制造為光學和半導體儀器的工業(yè)生產(chǎn)過程帶來了新的可能性,除了節(jié)省時間和減少料損外,該技術(shù)還具有以下優(yōu)點:

? 創(chuàng)造突破性的設(shè)計

? 提高剛度與質(zhì)量比

? 集成冷卻通道或隔熱器等新功能

? 簡化和優(yōu)化設(shè)計流程

在所有增材制造工藝中,立體光刻技術(shù)已成為最適合這些應(yīng)用的工藝,因為它可以在打印質(zhì)量、空間分辨率和材料特性方面實現(xiàn)最優(yōu)化的結(jié)果。為了提高其性能和壽命,未來半導體/光學器件的制造過程將變得更快,甚至更激進。那么,特定陶瓷材料的結(jié)合和工業(yè)3D打印機的商業(yè)化是應(yīng)對這些領(lǐng)域未來挑戰(zhàn)的不可或缺的資產(chǎn)。


本文節(jié)選自:2022年10月《CERAMIC APPLICATIONS》

   
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